6061鋁鍛件硬質陽極氧化膜的生成過程主要分為以下幾部分：
(1)阻擋層的生成：在進行硬質陽極氧化的最初幾秒內，表面形成了一層致密的A1203薄氧化膜，厚度一般在150A左右，如圖11(a)中A段。這層阻擋層使電解液與鋁基體隔開
(2)阻擋層受到溶解作用：由于氧化鋁比鋁原子體積大而發生膨脹，阻擋層變得凹凸不平，造成電流分布不均勻，凹處電阻較小而電流較大，凸處則正好相反。凹處隨著電流的增大，硬質陽極氧化膜表面由于強極化而發生局部擊穿，金屬鋁表面形成了

一層以A1203“小山丘”為主的氧化物。膜層表面變得粗糙不平。
(3)多孔層的形成：凹處加深逐漸變成孔穴，凸處則變成孔壁，形成了多孔層，硬質陽極氧化使阻擋層向多孔層轉移。由于存在濃度梯度和電勢梯度，A1”穿過膜層到達氧化物／電解液界面并溶解在電解液中，OH一，02一離子從電解液透過氧化膜到

達孔底部，到達氧化物／金屬基體界面的OH一，02一離子與砧3+離子按以下反應進行：
    6OH一+2A13+一3H20+A1203+Q
    2A13++302一一舢203+Q
6061鋁鍛件由于膜層發生體積膨脹，在相鄰孔間的和機械應力作用下引起排斥，從而引起內應力的產生。氧化反應發生在整個氧化膜／基體界面，在擴散作用和電場作用下，在孔底部的OH一，02一離子更容易到達此界面。而且此界面處的離子濃度

比電解液的平均濃度高，內應力在表面出現不均勻狀態，高應力部分(孔底)會向低應力部分(孔壁)轉移，硬質陽極氧化膜由孔底部向孔壁推進，孔壁被向垂直基體方向扯動，使得硬質陽極氧化膜沿厚度方向增厚。

• 上一篇：6061鋁鍛件硬質陽極氧化膜的生成過程一
• 下一篇：6082鋁鍛件硬質陽極氧化工藝